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プロセスコントローラユニット - 日本語 ja
事実
ポンプの接液面を酸にさらすと、微量金属が浸出する可能性があります。微量金属の汚染は、半導体デバイスの電気的特性の変化を引き起こします。マグネットポンプと比較すると、Levitronix ®ポンプは接液部品に遠心鋳造法を用いて製造されることはありません。遠心鋳造は、接液部に微量の金属汚染を引き起こす可能性があり、その結果、金属が液体に放出されます。
試験条件
35％HCl (塩酸) を抽出剤として使用しました。各試験の間、抽出剤は評価中ポンプを通して連続したフローを維持しました。各評価の前にバックグラウンドサンプルを採取し、対数換算でほぼ等間隔の時間、サンプルを採取しました。分析結果は、抽出された累積質量に変換しました。
結果
マグネットポンプからの表面汚染はLevitronix ®ポンプに比べ1,000倍以上となりました。
Trace metal extraction of a Levitronix® Pump compared to two magnetic drive pumps
