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プロセスコントローラユニット - 日本語 ja
事実
ぺりスタおよび4ピストンダイアフラムポンプは、チューブの圧縮やバルブの動きなど、可動部品間の機械的接触に基づいています。可動部品間の機械的接触によりせん断応力が発生し、製品の歩留まりが低下する可能性があります。
Levitronix ®ポンプは、可動部品間に機械的接触がありません。
試験条件
Levitronix ® PuraLev ® 200および600MUポンプ、ぺりスタポンプと4ピストンダイアフラムポンプを、油水エマルジョンで発生するせん断応力について評価しました。固定容量は、3.4および10 l/minで、異なる背圧で各ポンプによって再循環されました。ポンプによって加えられる剪断応力に依存するザウター直径が測定された。
結果
PuraLev® MUおよびSUポンプは、同等の動作条件で、他の2つのポンプタイプよりも最大59％大きいザウター平均粒径を特徴としています。これは、PuraLev® MUおよびSUポンプの流体力学的応力が低いことを示しています。
マルチユースおよびシングルユースの遠心ポンプおよびペリスタポンプと4連式ダイアフラムポンプの測定されたザウター平均直径d32,mの比較。