バイオプロセシング 
マイクロエレクトロニクス 
ポンプ 
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昇圧ユニット 
プロセスコントローラユニット - 日本語 ja
High shear flow generated by positive displacement pumps increases the distribution of oversized particles, leading to significantly increased wafer surface defectivity (scratches or roughness) during CMP, whereas less defectivity was found in slurries circulated by a magnetically levitated (maglev) centrifugal pump.