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プロセスコントローラユニット - 日本語 ja
事実
ぺりスタおよび4ピストンダイアフラムポンプは、チューブの圧縮やバルブの動きなど、可動部品間の機械的接触に基づいています。可動部品間の機械的接触によりせん断応力が発生し、製品の歩留まりが低下する可能性があります。
Levitronix ®ポンプは、可動部品間に機械的接触がありません。
試験条件
Levitronix ® PuraLev ® 200および600MUポンプ、ぺりスタポンプと4ピストンダイアフラムポンプを、それぞれの細胞生存率への影響を観察することによって比較しました。懸濁トランスフェクションCHO細胞を同一の閉ループ構成でポンプで送られました。各ポンプの流量は3.4および10 l/minに設定され、背圧はそれぞれ0〜0.5 Barに設定されました。細胞生存率を選択した時間に測定し、比較しました。
結果
PuraLev ® 600SUの細胞生存率は、テスト全体を通じて大幅に変化しませんでした。変動は許容誤差範囲内です。対照的に、4ピストンダイアフラムポンプは、すべてのテストで細胞生存率を大幅に低下させました。
3.4 l/min および 0.05 MPaの条件での相対生細胞密度