メディアセンター

Back to Media Center

懸濁トランスフェクションCHO細胞の異なるポンプにおける機械的ストレス分析 (磁気浮上ポンプ対4連式ダイアフラムポンプ)

Keywords:
  • 4ピストンダイヤフラムポンプ
  • バイオプロセシング
  • 細胞生存率
  • ポンプ比較
  • せん断応力
View document

事実
Levitronix ®ポンプと比較すると、4ピストンダイアフラムポンプは、流体の動きを目的の方向に制限する複数のバルブで構成されています。バルブの動きはせん断応力につながって、細胞の生存率が低下します。

試験条件
2つのLevitronix ®と1つの4ピストンダイアフラムポンプのせん断応力の生成を、それぞれの細胞生存率への影響を観察することによって比較しました。一定量のCHO細胞が3つの同一の閉ループ構成でポンプで送られました。各ポンプの流量は3.4 l/minに設定され、背圧はそれぞれ0.03、0.3、0.6 Barに設定されました。細胞生存率を選択した時間に測定し、比較しました。

結果
両方のLevitronix®ポンプシステムは、4ピストンダイアフラムポンプと比較して、CHO細胞に対する細胞ストレス効果が大幅に低いことを明らかにしました。高速でも、Levitronix®ポンプの細胞死率は4ピストンダイアフラムポンプよりも約30%低かったです。

3つのポンプで得られた生存率 (3.4 l/min、背圧0.03 bar)

 

Author Stephan Kaiser, Christina Löffelholz, Dieter Eibl
Company ZHAW
Document Number -
Pages 28