高清浄度ポンプ
極めて低い粒子脱落Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。
詳しくプロセスの管理は、ウエハーと直接接する液体の管理から始まります。デバイスの微細化と共に、集中供給される薬液への純度の要求は飛躍的に厳しくなります。ポンプによる送液と比べ、加圧による送液方法で生じるウォーターハンマーは、フィルターからの粒子の放出、配管の破損などのリスクの原因として考えられます。半導体製造用のポンプシステムの中で、Levitronix®ポンプは、機械的なベアリングを無くし、パーティクルをほとんど発生させないため、先端半導体洗浄での標準となっています。
Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。
詳しくポンプによる送液と比べ、加圧容器による送液は、ウォーターハンマーのリスクがあります。ウォーターハンマーは水圧の衝撃により、安全面での問題とフィルターから粒子放出を引き起こす可能性があります。Levitronix®ポンプは、循環ろ過を可能にし、安全性も高めることができます。
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