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湿制程清洗/蚀刻中最洁净的泵

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为了满足对半导体制造污染物日益提高的敏感性,晶圆清洗已成为最关键的操作之一。尽可能地减少工艺设备的颗粒污染对于获得高良率至关重要。与Levitronix®泵相比,气动泵会因止回阀、波纹管、隔膜和其他组件的摩擦产生磨损。磨损会导致碎屑颗粒脱落,从而导致晶圆缺陷。此外,气动泵的脉动流量会由于颗粒物的释放量增加而降低过滤器的性能。

Levitronix®泵系统专门设计用于要求苛刻的湿制程清洗应用,在这些应用中,超纯净和无脉动处理将确保最高的良率。

Company Levitronix
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